Data límit per enviar les sol·licituds: 25 de novembre 2018. El projecte industrial es centrarà en la tecnologia de plasma de RF de baixa pressió, així com en la deposició de la capa atòmica (ALD) i consta d'una part aplicada i una part científica. La primera part aplicada està orientada al desenvolupament tècnic addicional d'una font de plasma de RF per a la neteja de superfícies de precisió òptica i càmeres UHV crítiques, especialment per a components òptics de grans dimensions, en el camp de l'òptica de sincrotró i làsers d'electrons lliures (FEL) com la Litografia Ultraviolada extrema semiconductora (EUV) de pròxima generació. L'última part científica s'ocupa de les activitats de R + D centrades en l'ús del mateix tipus de font de plasma RF per a la deposició de pel·lícula prima epitaxial de multicapes híbrides de grafè / òxid metàl·lic, fent ús de les competències internes sobre la deposició de la capa atòmica (ALD) com una eina addicional per a la deposició de pel·lícules primes d'òxid metàl·lic sobre nanoestructures de carboni de grafè orientades a materials supercapacitadors.
L'estudiant de doctorat serà contractat per l'ALBA, on es durà a terme la major part de la feina.
- Si estàs interessat en presentar la teva sol·licitud, consulta l'oferta de feina 095/2018 - Neteja de superfícies òptiques i deposició de pel·lícules primes d'òxid de metall / grafè híbrid utilitzant RPE-CVD i ALD
Per enviar una sol·licitud per a un projecte de doctorat industrial, s'ha d'enviar una còpia digital del formulari completat a doctorats.industrials.sur@gencat.cat, i l'original signat a l'Agència de Gestió de Beques Universitaris i de Recerca (AGAUR): Passeig Lluís Companys, 23, 08010 Barcelona (RE: Industrial Doctorate Project).
Recorda que la sol·licitud s'ha d'enviar a l'Administració catalana com s'indica a les instruccions i no a CELLS-ALBA.
Per a més informació visiteu la següent web o contacteu industrialoffice@cells.es